特許

J-GLOBAL ID：201103097780904221

発光装置及び発光装置の製造方法

発明者： 木津 貴志 ,  松村 光芳
出願人/特許権者： カシオ計算機株式会社
代理人 (2件)： 荒船 博司 ,  荒船 良男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-156807
公開番号（公開出願番号）：特開2011-014347
出願日： 2009年07月01日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：

【課題】リーク電流の低減を図ること。【解決手段】ELパネル1におけるEL素子8のキャリア輸送層(8b、8c、8d)の端部Sであって、EL素子8におけるバンク13の側壁13aを被覆するキャリア輸送層の端部Sに紫外線を照射する処理を施すことで、端部Sを高抵抗化する改質を行い、そのキャリア輸送層の発光領域部分Cよりも、キャリア輸送層の端部Sを高抵抗化することによって、キャリア輸送層の端部Sでのリーク電流の低減を図り、キャリア輸送層の発光領域部分Cを電流経路とすることで、発光に寄与する電流をEL素子8に流すことを可能にした。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

基板の上面側に形成された第一電極と、前記第一電極上に形成されたキャリア輸送層と、前記キャリア輸送層上に形成された第二電極と、隔壁と、を備える発光装置の製造方法において、 前記隔壁は、前記第一電極を露出するように側壁で挟み、 前記隔壁の前記側壁間に、前記キャリア輸送層となる材料が溶媒に溶解または分散された液状体を塗布する塗布工程と、 前記塗布工程で塗布された前記液状体が前記第一電極を被覆するように成膜されてなる前記キャリア輸送層部分よりも、前記隔壁の前記側壁を被覆するように成膜されてなる前記キャリア輸送層の端部を高抵抗化する高抵抗化処理工程と、 を備えることを特徴とする発光装置の製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22

FI (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/12 B ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z

Fターム (12件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC02 ,  3K107CC29 ,  3K107CC33 ,  3K107DD87 ,  3K107DD89 ,  3K107FF04 ,  3K107FF15 ,  3K107GG06 ,  3K107GG21 ,  3K107GG28