特許

J-GLOBAL ID：201103097812060179

マスク検査方法

発明者： 小日向 秀夫
出願人/特許権者： NECエレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 机 昌彦 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009446
公開番号（公開出願番号）：特開2001-203246
特許番号：特許第3498030号
出願日： 2000年01月18日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 電子銃から照射される電子線を散乱型マスクを透過させてウエハ上にマスクパターンを描画する電子線露光装置を使用し、被検査マスクとなる前記散乱型マスクの直上に電気的に開閉する多数の小開口を有する開閉可能アパーチャを設置し、また、前記散乱型マスクの直下には、このマスクを透過した電子線の電流値を検出する電流測定装置を設置し、あらかじめコンピュータに入力されたマスクパターンデータから計算される開口率と前記電子線の電流値とを比較して前記散乱型マスクのパターン欠陥を検出することを特徴とするマスク検査方法。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/88 ,  G01N 23/08

FI (3件)：

H01L 21/66 J ,  G01N 21/88 Z ,  G01N 23/08