特許
J-GLOBAL ID：201103097892830247
スパッタ処理条件制御方法とスパッタ装置及びスパッタ処理条件制御を実行させるためのプログラムを記録した機械読み取り可能な記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮崎 昭夫 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-146868
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340522
特許番号：特許第3499770号
出願日： 1999年05月26日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 スパッタ機構と操作機構とを備えたスパッタ装置におけるスパッタ処理条件制御方法であって、スパッタ処理が終了したウェーハの膜表面を観察し、グレインサイズを前記スパッタ機構内に設けられた検査室で計測し、計測されたグレインサイズとグレインサイズの規格値との間にずれがある時は、前記操作機構に予め記憶されている制御データに基づいてグレインサイズを修正するための最適処理条件を算出して前記スパッタ機構の設定条件を変更し、次のウェーハのスパッタ処理を行うことを特徴とするスパッタ処理条件制御方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/285 S
, C23C 14/34 U
