特許
J-GLOBAL ID：201103097929283551
相変化型光ディスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-348508
公開番号（公開出願番号）：特開2001-167477
特許番号：特許第4238442号
出願日： 1999年12月08日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】所定の材料からなり所定の厚さを有する反射層を備えた相変化型光ディスクを製造する相変化型光ディスクの製造方法において、
第1の基板上に前記所定の材料をDCスパッタリング法により第1の成膜速度で成膜して第1の反射膜を形成し、前記第1の反射膜上に前記所定の材料をDCスパッタリング法により前記第1の成膜速度よりも速い第2の成膜速度で成膜して単層または複数の層からなる第2の反射膜を形成して、前記第1の反射膜と前記第2の反射膜とからなる前記反射層を形成する第1のステップと、
前記第1のステップ後に、前記反射層上に第1の保護層を形成する第2のステップと、
前記第2のステップ後に、前記第1の保護層上に相変化型の記録層を形成する第3のステップと、
前記第3のステップ後に、前記相変化型の記録層上に第2の保護層を形成する第4のステップと、
前記第4のステップ後に、前記第2の保護層と第2の基板とを接着剤層を介して貼り合わせる第5のステップと、
を有する相変化型光ディスクの製造方法。
IPC (2件)：
G11B 7/26 ( 200 6.01)
, G11B 7/24 ( 200 6.01)
G11B 7/26 531
, G11B 7/24 538 F
出願人引用 (2件)
審査官引用 (1件)
-
光磁気記録媒体
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-127500
出願人：ソニー株式会社
前のページに戻る
