特許
J-GLOBAL ID：201103098008793593
プラズマ処理装置及び炭素被覆形成プラスチック容器の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-380638
公開番号（公開出願番号）：特開2001-310960
特許番号：特許第3477442号
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2001年11月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 炭素被膜を形成するプラスチック容器の外径より大きい内径を有しその内側に前記プラスチック容器を設置可能な大きさの円筒状電極と、前記プラスチック容器の内部に該プラスチック容器の長手方向のほぼ全長にわたって挿入可能な大きさの棒状電極と、ガス供給手段とガス排気手段を備えた前記円筒状電極を収納する真空容器と、前記棒状電極が高圧側、前記円筒状電極が接地側となるように棒状電極と円筒状電極に接続した整合器及び高周波電源とを構成要素として含むことを特徴とするプラスチック容器の内面に炭素被膜を形成するプラズマ処理装置。
IPC (8件)：
C08J 7/00 306
, B01J 19/08
, B65D 1/09
, C08J 7/06
, C23C 16/26
, C23C 16/505
, H05H 1/46
, C08L 67:02
C08J 7/00 306
, B01J 19/08 H
, C08J 7/06 Z
, C23C 16/26
, C23C 16/505
, H05H 1/46 L
, C08L 67:02
, B65D 1/00 C
, B65D 1/00 B
