特許

J-GLOBAL ID：201103098115666073

シャフト状ワークの高周波焼入装置

発明者： 小山 雅行 ,  奥出 栄 ,  伊藤 淳 ,  橋口 英樹 ,  中井 靖文 ,  小島 英員 ,  上西 好幸
出願人/特許権者： 富士電子工業株式会社
代理人 (1件)： 大西 孝治 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-293211
公開番号（公開出願番号）：特開2001-115211
特許番号：特許第3499476号
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 シャフト状ワークを加熱する高周波加熱コイルと、この高周波加熱コイルによって加熱された部分に冷却液を噴射する冷却ジャケットと、前記高周波加熱コイルとシャフト状ワークとをシャフト状ワークの軸芯に沿って相対的に移動させる移動機構と、前記高周波加熱コイルとシャフト状ワークとを相対的に接離移動させる接離移動機構とを具備しており、前記高周波加熱コイルは、シャフト状ワークの軸芯に沿った直線状加熱導体部と、シャフト状ワークの周面を跨ぐ円弧状加熱導体部とを有しており、シャフト状ワークの加熱を開始する位置と終了する位置とでは、前記接離移動機構で円弧状加熱導体部とシャフト状ワークの周面とのギャップを適正値にするとともに、前記直線状加熱導体部とシャフト状ワークの周面とのギャップを適正値以上にし、加熱の開始及び終了位置以外では、前記接離移動機構で直線状加熱導体部とシャフト状ワークの周面とのギャップを適正値にするとともに、前記円弧状加熱導体部とシャフト状ワークの周面とのギャップを適正値以上にすることを特徴とするシャフト状ワークの高周波焼入装置。

IPC (2件)：

C21D 9/28 ,  C21D 1/10

FI (3件)：

C21D 9/28 B ,  C21D 1/10 G ,  C21D 1/10 P