特許
J-GLOBAL ID:201103098425314100

真空蒸着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 光石 俊郎 ,  光石 忠敬 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-163239
公開番号(公開出願番号):特開2011-017059
出願日: 2009年07月10日
公開日(公表日): 2011年01月27日
要約:
【課題】ライン状の蒸発源を複数用い、複数の蒸発材料を混合して蒸着を行う際、膜厚方向において、蒸発材料の混合比が一定となる均質な薄膜を形成することができる真空蒸着装置を提供する。【解決手段】複数のライン状の蒸着源を備えた真空蒸着装置において、蒸発容器8a、8bの放出孔13a、13bから放出された蒸発材料の蒸気の単位時間当たりの蒸着量が等しくなる等厚面19a、19bを、蒸発容器8a、8b各々について求め、等厚面19a、19bの接する位置が基板4の蒸着面で一致するように、蒸発容器8a、8bを配置した。【選択図】図6
請求項(抜粋):
蒸発材料を内部に収容し、複数の放出孔を線状に配置した蒸発容器を、前記複数の放出孔の配置方向と平行に複数配置し、 前記蒸発容器を各々加熱することにより、前記蒸発材料を各々気化又は昇華させて、前記複数の放出孔から前記蒸発材料の蒸気を各々放出させると共に、前記複数の放出孔の配置方向に垂直な方向に、基板及び前記蒸発容器を相対的に移動させて、前記基板全面に前記蒸発材料を混合して蒸着させる真空蒸着装置において、 前記蒸発容器の前記放出孔から放出された前記蒸発材料の蒸気の単位時間当たりの蒸着量が等しくなる等厚面を、前記蒸発容器各々について求め、 前記等厚面の接する位置が前記基板上で全て一致するように、前記蒸発容器を各々配置したことを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (3件):
C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (5件):
C23C14/24 S ,  C23C14/24 C ,  C23C14/24 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (20件):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107CC42 ,  3K107CC45 ,  3K107FF00 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG34 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029HA01 ,  4K029KA01
引用特許:
審査官引用 (5件)
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