特許
J-GLOBAL ID:201103098548061818
カラーフィルター基板の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
西 和哉
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 上柳 雅誉
, 須澤 修
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-095412
公開番号(公開出願番号):特開2001-281435
特許番号:特許第4069436号
出願日: 2000年03月30日
公開日(公表日): 2001年10月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 少なくともカラーフィルター層、カラーフィルター層を保護する保護膜、透明導電材料からなる透明電極を具備するカラーフィルター基板の製造方法において、基板本体上に前記カラーフィルター層と前記保護膜とを形成し、プラズマアッシングにより前記基板本体表面の表面洗浄を行った後、前記保護膜の上面から端縁部を経て前記基板本体上に至る第一透明導電膜を形成する工程と、該第一透明導電膜上にイオンプレーティング法により、前記第一透明導電膜とは膜質の異なる第二透明導電膜を形成し、前記第一透明導電膜、前記第二透明導電膜を所定のパターンに加工することにより、前記第一透明導電膜、前記第二透明導電膜の二層構造からなる前記透明電極を形成する工程とを有し、前記基板本体の洗浄処理、前記第一透明導電膜の形成時、及び前記第二透明導電膜の形成時におけるガス圧が0.1〜1Paに設定されることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
IPC (7件):
G02B 5/20 ( 200 6.01)
, C23C 14/08 ( 200 6.01)
, G02F 1/1335 ( 200 6.01)
, G02F 1/1343 ( 200 6.01)
, G09F 9/00 ( 200 6.01)
, G09F 9/30 ( 200 6.01)
, H01B 13/00 ( 200 6.01)
FI (8件):
G02B 5/20 101
, C23C 14/08 D
, G02F 1/133 505
, G02F 1/134
, G09F 9/00 342
, G09F 9/30 336
, G09F 9/30 349 B
, H01B 13/00 503 B
引用特許:
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