磁気記録媒体の脱膜方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-112413
公開番号（公開出願番号）：特開平2-292723
特許番号：特許第2844661号
出願日： 1989年05月01日
公開日（公表日）： 1990年12月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上にNi-P層、クロム下地層、コバルト系合金磁性薄膜層及び保護薄膜層を積層してなる磁気記録媒体より、Ni-P層を脱膜することなく、クロム下地層、磁性薄膜層及び保護薄膜層を脱膜する方法であって、該磁気記録媒体を4重量%以上の塩酸水溶液に還元剤を添加した溶液で処理することを特徴とする磁気記録媒体の脱膜方法。

IPC (2件)：