特許
J-GLOBAL ID：201103098998273866
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿部 美次郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-058127
公開番号（公開出願番号）：特開平2-236809
特許番号：特許第2578196号
出願日： 1989年03月10日
公開日（公表日）： 1990年09月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基体の上に、ノボラック樹脂系フォトレジストにより、導体コイル膜を支持する有機絶縁膜を形成する際に、前記有機絶縁膜は、第1段階が120°C〜140°C、次の第2段階が170°C〜190°C、次の第3段階が200°C〜320°Cの3段階キュア工程で形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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