特許
J-GLOBAL ID：201103099014179682
非還元性ガスを併用したガス圧接方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松岡 宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-081131
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259862
特許番号：特許第3567118号
出願日： 2000年03月23日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】突合面を強還元性ガスによる強還元炎でガスシールしながら加熱させると共にそのガスシールの両側を非還元性ガスで所定の焼幅が得られるように加熱し且つ前記突合面が密着されて隙間がなくなるまで初期加熱を行い、その後、非還元性ガスだけで後期加熱を行うことを特徴とする非還元性ガスを併用したガス圧接方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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