特許

J-GLOBAL ID：201103099415009143

ナノインプリントのパターン形成方法

発明者： 市川 幸司 ,  山田 愛理 ,  難波 克彦
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-278347
公開番号（公開出願番号）：特開2011-121182
出願日： 2009年12月08日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：

【課題】優れた形状のパターンを得ることができるパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】(1)樹脂及び溶剤を含む組成物を基板上に塗布する工程、(2)基板上に塗布した層から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、(3)組成物層を水に浸漬しながら、組成物層にモールドのパターン面を圧着して、モールドのパターンを転写する工程、(4)モールドのパターンが転写された組成物層を乾燥する工程及び(5)得られた組成物層をモールドから離脱させる工程を含むパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(1)樹脂及び溶剤を含む組成物を基板上に塗布する工程、 (2)基板上に塗布した層から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、 (3)組成物層を水に浸漬しながら、組成物層にモールドのパターン面を圧着して、モールドのパターンを転写する工程、 (4)モールドのパターンが転写された組成物層を乾燥する工程、及び、 (5)得られた組成物層をモールドから離脱させる工程を含むパターン形成方法。

IPC (3件)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  C08F 12/00

FI (3件)：

B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D ,  C08F12/00

Fターム (36件)：

4F209AA36 ,  4F209AA37 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AM25 ,  4F209AM30 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA12P ,  4J100BA15P ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC27Q ,  4J100BC43Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA37 ,  5F046AA28 ,  5F146AA28