特許

J-GLOBAL ID：201103099462679351

触媒式ガス処理装置

発明者： ヘード,ビェルン
出願人/特許権者： ヘード,ビェルン
代理人 (5件)： 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-528784
特許番号：特許第4482227号
出願日： 1999年01月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 a)パーティションであって当該パーティションを介して熱交換が起こるパーティションをも形成する担体上に触媒が塗布され、 b)パーティションは、アコーディオンのようにパッケージ(1)に折畳まれた金属あるいはセラミックの形状的に模様のついたバンドから構成されており、 c)パッケージは、交互に配置される通路を形成し、当該通路間でバンド材料を通して熱交換が発生し、通路の幾何学的形状は、バンドの折り畳み、および形状的な模様により決定される、触媒式ガス混合物処理装置において、 パッケージ(1)に交互に配置された通路は、パッケージ(1)の側部に位置された入口または出口に、そしてパッケージの両端部に位置されたガス反転チャンバ(4、5)に接続されており、ガスが装置を通過して流れるとき、流れ方向が、バンドの折り目方向に対してある角度を持った導入方向から、パッケージの元のものにあたるバンドの一方の面に沿った相互に反対の方向に変化し、そこから、それぞれのガス反転チャンバにおいてパッケージ端部の外側でパッケージの元のものにあたるバンドの反対側の面への反転へと続く一方、バンドの折り目のエッジに沿って反対方向に流れ、そしてそこから前記エッジに対しある角度で出口の方へ向かうようにして、流入流れおよび流出流れ間で熱が交換される、ことを特徴とする触媒式ガス処理装置。

IPC (3件)：

B01D 53/86 ( 200 6.01) ,  F01N 3/24 ( 200 6.01) ,  F23G 7/06 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B01D 53/36 ZAB B ,  F01N 3/24 L ,  F23G 7/06 Z

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 接触浄化用装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-506431   出願人：ヘード,ビェルン
• 熱交換器とその製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-528883   出願人：ヘード,ビェルン