特許

J-GLOBAL ID：201103099636193275

反射型フォトマスク、露光量制御方法及び露光装置

発明者： 西山 泰史
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-201629
公開番号（公開出願番号）：特開2011-054719
出願日： 2009年09月01日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：

【課題】コンタミネーション膜が成長する環境下でも、より高精度に露光量の制御を行うことができる反射型フォトマスクの露光量制御方法及び露光装置を提供する。【解決手段】反射型フォトマスクの吸収膜が反射率測定領域を有して、複数の波長を反射率測定領域に照射する露光量制御方法であって、反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光前の初期反射率R0(λ)と反射型フォトマスクを用いて、露光を繰り返した後の反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光後の反射率R(λ)との少なくとも2つの波長について取得する反射率取得工程を備えることを特徴とする露光量制御方法。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

反射型フォトマスクの吸収膜が反射率測定領域を有して、複数の波長を前記反射率測定領域に照射する露光量制御方法であって、 前記反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光前の初期反射率R0(λ)と前記反射型フォトマスクを用いて、露光を繰り返した後の前記反射率測定領域に照射する複数の波長λにおける露光後の反射率R(λ)との少なくとも2つの波長について取得する反射率取得工程を備えることを特徴とする露光量制御方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/30 516D ,  H01L21/30 517 ,  H01L21/30 531A ,  H01L21/30 531M

Fターム (24件)：

5F046AA17 ,  5F046AA22 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DA06 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DC04 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GD10 ,  5F046GD20 ,  5F146AA17 ,  5F146AA22 ,  5F146CB17 ,  5F146DA02 ,  5F146DA06 ,  5F146DA27 ,  5F146DB01 ,  5F146DC04 ,  5F146GA03 ,  5F146GA07 ,  5F146GD00 ,  5F146GD20