特許

J-GLOBAL ID：201103099640468041

酸化ニッケル微粉末及びその製造方法

発明者： 米里 法道 ,  伊藤 泰 ,  金子 勲
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (2件)： 辻川 典範 ,  山本 正緒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-096145
公開番号（公開出願番号）：特開2011-225395
出願日： 2010年04月19日
公開日（公表日）： 2011年11月10日
要約：

【課題】 電子部品材料として好適な、硫黄品位が制御され塩素品位が低く、且つ微細な酸化ニッケル微粉末、及びその工業的に安定な製造方法を提供する。【解決手段】 硫酸ニッケル水溶液をアルカリによって中和し、得られた水酸化ニッケルを、非還元性雰囲気中において850°Cを超え1200°C未満の温度で熱処理して酸化ニッケル粒子を形成し、該熱処理の際に形成され得る酸化ニッケル粒子の焼結体を好ましくは粒子同士を衝突させることにより解砕する。得られる酸化ニッケル微粉末は、硫黄品位が400質量ppm以下、塩素品位が50質量ppm以下、ナトリウム品位が100質量ppm以下、比表面積が2〜7m2/gである。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

硫酸ニッケル水溶液をアルカリで中和して水酸化ニッケルを得る工程Aと、得られた水酸化ニッケルを非還元性雰囲気中において850°Cを超え1200°C未満の温度で熱処理して酸化ニッケル粒子を形成する工程Bと、該熱処理の際に形成され得る酸化ニッケル粒子の焼結体を解砕する工程Cとを含むことを特徴とする酸化ニッケル微粉末の製造方法。

IPC (1件)：

C01G 53/04

FI (1件)：

C01G53/04

Fターム (5件)：

4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AC06 ,  4G048AD04 ,  4G048AE05