ブタジエンの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人SSINPAT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-009931
公開番号（公開出願番号）：特開2011-148720
出願日： 2010年01月20日
公開日（公表日）： 2011年08月04日
要約：

【課題】エチレンからブタジエン製造するにあたり、工業的に有利な製造法を提供すること。【解決手段】(I)ニッケルの含有量が0.0001〜1重量%であるニッケル、アルミナおよびシリカからなる触媒の存在下、反応温度150〜400°Cでエチレンを二量化して、実質イソブテンを含まないn-ブテンを製造する工程、(II)前記工程(I)で得られたn-ブテンおよび酸素を、モリブデン、ビスマスを必須成分とする複合金属酸化物の存在下、反応温度300°C〜600°Cで酸化脱水素反応してブタジエンを製造する工程の工程(I)および(II)を含むブタジエンの製造方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記工程(I)および(II)を含むブタジエンの製造方法。 (I) ニッケルの含有量が0.0001〜1重量%であるニッケル、アルミナおよびシリカからなる触媒の存在下、反応温度150〜400°Cでエチレンを二量化して、n-ブテンを製造する工程、 (II) 前記工程(I)で得られたn-ブテンおよび酸素を、モリブデン、ビスマスを必須成分とする複合金属酸化物の存在下、反応温度300°C〜600°Cで酸化脱水素反応してブタジエンを製造する工程

IPC (9件)：

C07C 5/333 , C07C 11/167 , C07C 2/24 , C07C 11/08 , C07C 7/04 , C07C 6/04 , C07C 11/06 , B01J 23/755 , B01J 23/88

FI (9件)：

C07C5/333 , C07C11/167 , C07C2/24 , C07C11/08 , C07C7/04 , C07C6/04 , C07C11/06 , B01J23/74 321Z , B01J23/88 Z

Fターム (47件)：

4G169AA03 , 4G169BA01A , 4G169BA01B , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA03A , 4G169BB06A , 4G169BB06B , 4G169BC06B , 4G169BC10B , 4G169BC25A , 4G169BC25B , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC60B , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169CB07 , 4G169CB20 , 4G169CB41 , 4G169CB47 , 4G169CB63 , 4G169FC08 , 4H006AA02 , 4H006AC12 , 4H006AC21 , 4H006AC29 , 4H006AD11 , 4H006BA13 , 4H006BA14 , 4H006BA19 , 4H006BA20 , 4H006BA21 , 4H006BA30 , 4H006BA55 , 4H006BA75 , 4H006BC10 , 4H006BC32 , 4H039CA29 , 4H039CC10 , 4H039CF10 , 4H039CJ30 , 4H039CL11

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