特許

J-GLOBAL ID：201103099662230219

アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドからなるレジスト除去剤、レジスト除去用組成物、これらの製造方法及びこれらを用いたレジスト除去方法

発明者： 朴 東鎭 ,  黄 震虎 ,  吉 俊仍 ,  朴 濟應 ,  全 相文
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 服部 雅紀
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-210983
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199972
特許番号：特許第3891735号
出願日： 1999年07月26日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドからなることを特徴とするレジスト除去剤。

IPC (5件)：

G03F 7/42 ( 200 6.01) ,  C11D 7/32 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01) ,  C09D 9/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 D ,  C09D 9/00