特許
J-GLOBAL ID：201103099811399078
液体金属イオン源、二次イオン質量分析計、二次イオン質量分析方法、およびその利用
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
龍華国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-530313
公開番号（公開出願番号）：特表2011-501367
出願日： 2008年10月16日
公開日（公表日）： 2011年01月06日
要約：
【解決手段】 本発明は、液体金属イオン源、二次質量分析計、および対応する分析方法、ならびにこれらの利用に関する。特に、ジェントルSIMS(G-SIMS)法に基づく質量分析方法に関する。 上記の目的を実現するべく、原子量が190U以上の第1の金属と、原子量が90U以下の第2の金属とを有する液体金属イオン源を利用する。 本発明によれば、G-SIMS法に基づき、一次イオンビームから2つの種類のイオンのうち一方を交互にフィルタリングで取り出し、質量高純度一次イオンビームとしてターゲットに当てる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
合金にビスマスを含む液体金属イオン源であって、
前記合金は第2の金属をさらに含み、前記第2の金属は、原子量が90u以下で、ビスマスに対する溶解度が1%以上で、同位体がほとんどないかあるいは全くなく、または、同位体分布が小さく、イオンビームの生成時に前記第2の金属とビスマスとが形成する混合クラスタは全くないか、または少量のみである液体金属イオン源。
IPC (5件)：
H01J 27/26
, H01J 37/317
, H01J 37/252
, H01J 49/26
, H01J 49/40
H01J27/26
, H01J37/317 D
, H01J37/252 B
, H01J49/26
, H01J49/40
5C030DF04
, 5C030DF05
, 5C030DF10
, 5C030DG05
, 5C030DG09
, 5C033QQ02
, 5C033QQ09
, 5C033QQ15
, 5C034DD01
, 5C034DD02
, 5C034DD06
, 5C034DD09
, 5C038HH02
, 5C038HH05
, 5C038HH28
, 5C038HH30
