特許
J-GLOBAL ID:201103099824333700
ラジアルアンテナ及びそれを用いたプラズマ装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
山川 政樹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-236716
公開番号(公開出願番号):特開2002-050615
特許番号:特許第4598247号
出願日: 2000年08月04日
公開日(公表日): 2002年02月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】複数のスロットが形成された第1の導電板と、マイクロ波導入口を有し前記第1の導電板に対向配置された第2の導電板と、前記第1及び第2の導電板の周縁を接続するリング部材とを備えたラジアルアンテナにおいて、
前記第1及び第2の導電板により形成されるラジアル導波路内の前記第2の導電板上に設けられ、前記第1の導電板までの距離を調整する導電性の調整部材を備えたことを特徴とするラジアルアンテナ。
IPC (4件):
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 21/302 101 D
, B01J 19/08 F
, H01L 21/205
, H05H 1/46 B
引用特許:
出願人引用 (3件)
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-144831
出願人:住友金属工業株式会社
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-153357
出願人:東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-338812
出願人:株式会社日立製作所
審査官引用 (3件)
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-144831
出願人:住友金属工業株式会社
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-153357
出願人:東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-338812
出願人:株式会社日立製作所
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