資源
J-GLOBAL ID:201110001779916836   研究資源コード:1000001953 更新日:2004年10月22日

薄膜応力測定装置

Film stress measurement instrument
保有機関:
担当者: 幸塚 広光
資源分類: 実験機器、施設等
研究分野 (2件): 機能物質化学 ,  無機材料・物性
概要:
シリコン基板上にコーディングした薄膜の内部に発生する応力を室温
から500°Cまでの温度で測定することができる。
利用環境と条件:
研究業務の遂行に支障がないこと
利用手続きと方法:
現在検討中。詳細は担当者にお問合わせ下さい。

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