資源
J-GLOBAL ID:201110009879464372   研究資源コード:1000000244 更新日:2005年01月26日

反応型薄膜作製装置

保有機関:
担当者: 佐藤 祐一、 齊藤 準
資源分類: 実験機器、施設等
研究分野 (1件): 電子デバイス・電子機器
概要:
反応型薄膜作製装置
主要目的:微細な機能デバイス開発のための種々の機能材料
を薄膜化
(1)薄膜作製装置、(2)レーザー光照射装置、(3)ガス検出装置、
(4)走査型レーザー顕微鏡、(5)X線回折装置
研究領域: 電子デバイス・機器工学
利用環境と条件:
研究業務の遂行に支障のないこと
利用手続きと方法:
・利用手続き 詳細は、担当者まで問い合わせること
・利用料金 1000円/月
・利用者の資格 本学との共同研究者
・利用上の制約 特になし

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