資源
J-GLOBAL ID:201110029515173284   研究資源コード:5000002684 更新日:2005年12月13日

SMILE II(放射光)

SR micro lithography and etching for micro / nano fabrication
保有機関:
担当者: 杉山 進
資源分類: 実験機器、施設等
研究分野 (2件): 構造・機能材料 ,  材料加工・処理
概要:
この装置は、LIGAプロセスに用いる厚いレジストの露光光源としてSRを
用いるものです。SRの強度、指向性を利用して高アスペクト比の
マイクロマシン用三次元微細加工、ナノ構造デバイスの製作を行っています。
利用環境と条件:
スポット利用 委託分析 受託研究 共同研究
事務局が担当教員との調整を行う。

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