資源
J-GLOBAL ID:201110029524903511   研究資源コード:1000001699 更新日:2002年11月30日

固体ソースECRプラズマ成膜装置

ECR Plasma Sputter
保有機関:
担当者: 鷹野 致和
資源分類: 研究材料・サンプル・試作品等
研究分野 (1件): 電子・電気材料工学
概要:
固体ソースECRプラズマ成膜装置 主要目的:半導体デバイス作製工程の1つであるSiN絶縁膜製膜を行うための装置
利用環境と条件:
研究業務の遂行に支障のない事
利用手続きと方法:
詳細は,担当者まで問い合わせること

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