資源
J-GLOBAL ID:201110042468665919   研究資源コード:5000004344 更新日:2006年01月24日

スパッタリング蒸着装置

Sputtering apparatus
保有機関:
担当者: 草開 清志
資源分類: 実験機器、施設等
研究分野 (4件): 無機化学 ,  応用物性・結晶工学 ,  電子デバイス・電子機器 ,  金属物性
概要:
Arイオンをターゲットに衝突させターゲット物質のスパッタリング
による高品質薄膜を作成する装置です。
高融点物質、合金、化合物、混合物組成の薄膜が作成できます。
利用手続きと方法:
利用手続きの詳細は、担当者まで問い合わせること
利用者の資格は、本学との共同研究者

前のページに戻る