資源
J-GLOBAL ID:201110043565904169   研究資源コード:5000001121 更新日:2002年11月19日

プラズマエッチング装置

Reactive Ion Plasma Etching System
保有機関:
資源分類: 研究材料・サンプル・試作品等
研究分野 (1件): 電子・電気材料工学

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