資源
J-GLOBAL ID:201110050917352451   研究資源コード:5000002612 更新日:2004年12月24日

多種イオン発生装置EFIB-2000S

Multi-ion beams generation source
保有機関:
担当者: 石川 順三
資源分類: 実験機器、施設等
研究分野 (1件): 薄膜・表面界面物性
概要:
多種イオン発生装置 各種の正イオンや負イオンを発生させ、
低エネルギー領域でイオンを固体表面に照射又は注入を行う
実験装置
研究領域: 応用物理学・工学基礎
利用環境と条件:
電子工学専攻大電力イオン源装置室で遂行している研究活動および教育活動に支障のないこと。
利用手続きと方法:
受託研究員又は共同研究員などの資格を得ると利用できます。

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