マスクボンディングアライナー

保有機関：

資源分類：実験機器、施設等

研究分野 (2件)：構造・機能材料 , 材料加工・処理

概要：

フォトマスクに描かれたパターンを、感光剤が塗られた基板に転写することによる半導体微細加工等における微細パターン形成及びマスクアライメント
ガラスとシリコンを重ねて接合する際の両者間の位置合わせ

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