資源
J-GLOBAL ID:201110091386580371   研究資源コード:5000004347 更新日:2006年01月24日

プラズマCVD装置

Apparatus of plasma assisted chemical Vapor deposition.
保有機関:
担当者: 草開 清志
資源分類: 実験機器、施設等
研究分野 (3件): 薄膜・表面界面物性 ,  金属物性 ,  無機材料・物性
概要:
化学反応を利用して薄膜を作成する装置です。原料ガスをプラズマ状に
して化学的に非常に活性である励起分子、原子、イオン、ラジカル
などを作り出し、化学反応を促進させて基板上に薄膜を作成するために、
比較的低温で作成することができます。また、プラズマ状態を利用する
ことから、単なる化学反応では作成困難ないしは、不可能な新素材の
開発ができます。
利用手続きと方法:
利用手続きの詳細は、担当者まで問い合わせること
利用者の資格は、本学との共同研究者

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