資源
J-GLOBAL ID:201110095092771620   研究資源コード:1000001703 更新日:2002年11月30日

ロードロック式電子ビーム蒸着装置

Load Lock Type High Vacume Electron Beam Thin Filme Metal Deposition System
保有機関:
担当者: 鷹野 致和
資源分類: 研究材料・サンプル・試作品等
研究分野 (1件): 電子・電気材料工学
概要:
ロードロック式電子ビーム蒸着装置 主要目的:半導体デバイス作製工程のひとつである金属蒸着工程を行うための装置
利用環境と条件:
研究業務の遂行に支障のない事
利用手続きと方法:
詳細は,担当者まで問い合わせること

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