文献

J-GLOBAL ID：201202111802105049   整理番号：12A1346776

高エネルギーイオン注入したシリカガラスの誘起欠陥の熱処理特性

著者 (7件)： 惣野崇 (芝浦工大) ,  西川宏之 (芝浦工大) ,  山口喬之 (東京都大) ,  渡辺英紀 (東京都大) ,  西原義孝 (早稲田大) ,  藤巻真 (早稲田大) ,  大木義路 (早稲田大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 61st  号： 2  ページ： 813  発行年： 2000年09月03日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高エネルギーイオン ,  注入 ,  シリカガラス ,  誘起 ,  欠陥 ,  熱処理特性