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J-GLOBAL ID：201202200077044120   整理番号：12A0999906

フェノール化合物の光酸化に対する置換基の種類と位置の影響:応答表面方法

Influence of substituent type and position on photooxidation of phenolic compounds: Response surface methodology approach

著者 (4件)： KUSIC Hrvoje (Fac. of Chemical Engineering and Technol., Univ. of Zagreb, Marulicev trg 19, Zagreb 10000, HRV) ,  KOPRIVANAC Natalija (Fac. of Chemical Engineering and Technol., Univ. of Zagreb, Marulicev trg 19, Zagreb 10000, HRV) ,  PAPIC Sanja (Fac. of Chemical Engineering and Technol., Univ. of Zagreb, Marulicev trg 19, Zagreb 10000, HRV) ,  LONCARIC BOZIC Ana (Fac. of Chemical Engineering and Technol., Univ. of Zagreb, Marulicev trg 19, Zagreb 10000, HRV)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 242  ページ： 1-12  発行年： 2012年08月15日 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水中のUV/H₂O₂プロセスによるフェノール性汚染物質の分解に対するプロセス(pHおよび[H₂O₂])および構造(置換基の種類と位置)のパラメータの組み合わせの影響を改良された混合3⁴完全要因配置と応答表面方法論(RSM)を用いて検討した。モデルの廃水はオルトおよびパラ位のヒドロキシル(-OH),クロロ(-Cl),ニトロ(-NO₂),およびメチル(-CH₃)の置換基を含む8つのフェノール性汚染物質から構成した。検討した全てのフェノール類は一次分解反応速度に従ったが,検討した全てのプロセスと構造パラメータに大きく影響を受けた。二次多項式モデルを用いてこれらの影響を示す。フェノール系汚染物質のそれぞれについて,異なる最適化操作条件と測定した一次分解反応速度定数_obs)の値を決定して,親の汚染物質分解の置換基の種類と位置の大きな影響と構造的に決定した分解経路を示した。k_obsはヒドロキシルラジカルによる二次分解速度および順位相関係数を用いた検討したフェノール類のいくつかの物理的および構造的関連する性質と相関していた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *水中 ,  *フェノール類 ,  *光酸化 ,  紫外線照射 ,  加水分解 ,  汚染物質 ,  *酸化 ,  *分解反応 ,  プロセスパラメータ ,  *置換基効果 ,  実験計画法 ,  応答曲面法 ,  反応速度論 ,  一次反応 ,  反応経路 ,  反応速度定数 ,  構造活性相関 ,  廃水処理 ,  多価フェノール
準シソーラス用語： *酸化分解

分類 (3件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  酸化,還元  (CF02060T) ,  芳香族単環フェノール類・多価フェノール  (CF05090V)

物質索引 (8件)： 2-クロロフェノール ,  2-ニトロフェノール ,  2-ヒドロキシフェノール ,  2-メチルフェノール ,  4-クロロフェノール ,  4-ニトロフェノール ,  4-ヒドロキシメチルフェノール ,  4-メチルフェノール

タイトルに関連する用語 (4件)： フェノール化合物 ,  光酸化 ,  置換基 ,  応答