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J-GLOBAL ID：201202200186085422   整理番号：12A0165349

小型化三次元磁気エレクトロニクスに向けて ロールアップしたCo/Cuナノ膜における磁気抵抗効果

Towards compact three-dimensional magnetoelectronics-Magnetoresistance in rolled-up Co/Cu nanomembranes

著者 (6件)： MUELLER C. (Departamento de Fisica, Universidade Federal do Parana, CP 19044, CEP 81531-990, Curitiba, PR, BRA) ,  BOF BUFON C. C. (Inst. for Integrative Nanosciences, IFW Dresden, Helmholtzstrasse 20, D-01069 Dresden, DEU) ,  NAVARRO FUENTES M. E. (Inst. for Integrative Nanosciences, IFW Dresden, Helmholtzstrasse 20, D-01069 Dresden, DEU) ,  MAKAROV D. (Inst. for Integrative Nanosciences, IFW Dresden, Helmholtzstrasse 20, D-01069 Dresden, DEU) ,  MOSCA D. H. (Departamento de Fisica, Universidade Federal do Parana, CP 19044, CEP 81531-990, Curitiba, PR, BRA) ,  SCHMIDT O. G. (Inst. for Integrative Nanosciences, IFW Dresden, Helmholtzstrasse 20, D-01069 Dresden, DEU)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 2  ページ： 022409  発行年： 2012年01月09日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標準のトップダウン法と組合わせた歪工学は,ロールアップしたCo/Cuナノ膜に基づいた小型三次元構造の製作に適していることを示した。この製作過程は完全に集積可能で,高品質のロールアップチューブを高収量(約95%)でもたらした。2巻のロールアップチューブは,約20%の磁気抵抗効果を示した。この値は,薄膜について観測した値よりも大きかった。この磁気抵抗効果増大は,隣接巻線,Cu層厚の変化,および薄膜面内の電流線が横切る有効面積の増大,に起因すると推論した。本研究結果は,磁気センサおよびエレクトロニクス要素に対する新しい可能性を有することを指摘した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  *超薄膜 ,  *コバルト ,  銅 ,  多層 ,  *磁気抵抗効果 ,  近接効果 ,  膜厚 ,  面積 ,  ナノシート
準シソーラス用語： ナノ膜

分類 (2件)： 金属結晶の電子伝導  (BM03033M) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 磁気エレクトロニクス ,  ロール ,  CO ,  Cu ,  ナノ膜 ,  磁気抵抗効果