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J-GLOBAL ID：201202200575215463   整理番号：11A1550952

三重項HB=SiLiFの構造及びR--H(R=F,OH,NH2)との挿入反応

Structures of the Triplet Silylenoid HB=SiLiF and Its Insertion Reactions with R--H(R=F,OH,NH2)

著者 (5件)： Li Wenzuo (Chemistry and Biology Coll., Yantai Univ., Shandong, Yantai) ,  Zhu Hongjie (Chemistry and Biology Coll., Yantai Univ., Shandong, Yantai) ,  Cheng Jianbo (Chemistry and Biology Coll., Yantai Univ., Shandong, Yantai) ,  Li Qingzhong (Chemistry and Biology Coll., Yantai Univ., Shandong, Yantai) ,  Gong Baoan (Chemistry and Biology Coll., Yantai Univ., Shandong, Yantai)
資料名： Wuli Huaxue Xuebao  (Wuli Huaxue Xuebao)
巻： 26  号： 9  ページ： 2543-2548  発行年： 2010年 
JST資料番号： W0391A  ISSN： 1000-6818  CODEN： WHXUEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 密度汎関数理論(DFT)及び単一及び二重励起(QCISD)法による二次元配置間相互作用を用いて,三重項シリレノイドHB=SiLiFの幾何学及びRH(R=F,OH,NH2)とのその挿入反応を解析した。計算の結果,HB=SiLiFは3つの平衡構造を有し,その内で四員環構造が最低エネルギーを有し,最も安定な構造であることが判明した。HB=SiLiFとHF,H2O及びNH3の挿入反応の機構は同一であった。QCISD/6-311++G(d,p)//B3LYP/6-311+G(d,p)で計算した3つの反応のポテンシャルエネルギー障壁はそれぞれ124.85,140.67,及び148.16kJmol-1で,3つの反応に対する反応熱はそれぞれ-2.22,20.08及び23.22kJmol-1であった。同じ条件で,挿入反応は以下の順序で容易に生じるはずであった:H--F>H--OH>H--NH2。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： 三重項 ,  *挿入反応 ,  密度汎関数法 ,  二重励起状態 ,  二次元 ,  配置間相互作用 ,  幾何学 ,  ポテンシャルエネルギー ,  障壁
準シソーラス用語： 密度汎関数理論 ,  二重励起 ,  エネルギー障壁

分類 (1件)： 化学一般その他  (CA01060X)

タイトルに関連する用語 (2件)： 三重項 ,  挿入反応