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J-GLOBAL ID：201202200758599813   整理番号：12A0478877

アンビエント技術 写真のプロセス・材料技術のアンビエント技術への展開

Application of Photography Production/Material Technology to Ambient Device Technology

著者 (1件)： 宮本公明 (富士フイルム)
資料名： 日本写真学会誌  (日本写真学会会誌)
巻： 75  号： 1  ページ： 57-62  発行年： 2012年02月25日 
JST資料番号： G0165A  ISSN： 0369-5662  CODEN： NSGKAP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プリンテッドエレクトロニクスを使用したデバイスを生産するための技術をアンビエント技術と呼ぶ。このうち,特にプロセス技術は,WET成膜であり,流体力学・レオロジー・界面科学の複合領域であるため,写真の生産プロセス技術と共通する点が多い。今後,高い製造品質を達成するために,品質に影響する現象のメカニズムを正しく理解し上記分野の知見を有効に活用することが重要と考える。本報では粒子の凝集と配向の発現メカニズム,親水性/疎水性の制御と利用の観点で,シミュレーションの結果を交えて紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *カラーフィルム ,  *感光層 ,  塗膜 ,  配向 ,  凝集 ,  粒子 ,  現象 ,  界面 ,  親水性 ,  疎水性
準シソーラス用語： はじき ,  粒子配向

分類 (1件)： 感光材料  (ZA03020Q)

引用文献 (7件)：

• 1) 西川,藤田,前之園,山口,大久保,“液膜法によるコロイド粒子の二次元配列構造に及ぼす摩擦力の影響-離散要素法による検討-”,J. Soc. Powder Technol. Japan, 41, 465 (2004).
• 2) M. Altosaar, M. Danilson, M. Kauk, J. Krustok, E. Mellikov, J. Raudoja, K. Timmo, T. Varema, "Further developments in CIS monograin layer solar cells technology", Solar Energy Materials and Solar Cells, 87, 25 (2005).
• 3) E. D. Cohen, R. Grotovsky, "Application of Digital Image Analysis Techniques to Photographic Film Defect Test Method Development", J. Imaging Science and Technol., 37, 133 (1993).
• 4) C. L. Bower, E. A. Simister, E. Bonnist, K. Paul, N. Pightling, T. D. Blake, "Continuous Coating of Discrete Areas of a Flexible Web", AIChE Journal, 53, 1644 (2007).
• 5) 小野寺,油谷,田野,友野,村上,鈴木,柳澤,亀山,川島,“全印刷有機TFTバックプレーンを用いたフレキシブル電気泳動ディスプレイ”,Ricoh Technical Report, No. 35, 2009, p. 73.

タイトルに関連する用語 (3件)： 写真 ,  プロセス ,  展開