文献

J-GLOBAL ID：201202200886730388   整理番号：12A0112388

光誘導技法を用いた渦電流プローブのフィールドマッピングにおける薄膜厚および材料の影響の数値解析

Numerical Analysis of the Effect of Thin-Film Thickness and Material in Field Mapping of Eddy-Current Probes Using Photoinductive Technique

著者 (3件)： PAN Yen-lin (National Cheng Kung Univ.) ,  TAI Cheng-chi (National Cheng Kung Univ.) ,  LIANG Dong-shong (Kun Shan Univ.)
資料名： IEICE Transactions on Electronics (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers)  (IEICE Transactions on Electronics (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： E95-C  号： 1  ページ： 86-92 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： L1370A  ISSN： 0916-8524  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄い金属膜上に傾斜コイルをもつ渦電流(EC)プローブを特性化するための光誘導(PI)フィールドマッピング技法の数値解析を二次元過渡現象有限要素法(FEM)を用いて調査した。ECプローブ特性化に使われたフィールドマッピング画像に対する金属膜材料の影響を観察するためにPI法のFEMモデルを適用した。また,PIマッピング信号に対する膜厚さの影響を示し検討した。提案したモデルを用いたシミュレーション結果により,PI信号が熱伝導性と薄い金属膜の厚さに大きく影響することを示した。また,0°,5°,10°,15°および20°傾斜角をもつECプローブコイルのための適切な実際の金属膜材料を用いて,フィールドマッピング信号を試験した。商用ECプローブのフィールドマッピング画像におけるより高度の分解能が,与えられた金属膜のより高度の熱伝導性およびより薄い厚さにより得られることを示した。個別フィールド分布の基本的理解は,ECテスティングによる精密な検査のためにより高品質ECプローブの選択を支援可能にした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *渦電流 ,  *数値解析 ,  *プローブ ,  現場 ,  写像 ,  薄膜 ,  金属薄膜 ,  *キャラクタリゼーション ,  有限要素法 ,  二次元 ,  過渡現象 ,  熱特性 ,  傾斜角 ,  分解能
準シソーラス用語： フィールド ,  マッピング ,  金属膜 ,  *特性化 ,  熱伝導性

分類 (2件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  数値計算  (JE02000J)

引用文献 (17件)：

• [1] J.C. Moulder, N. Nakagawa, K.S. No, Y.P. Lee, and J.F. McClelland, “Photoinductive imaging: A new nde technique,” in Review of progress in quantitative nondestructive evaluation, eds. D.O. Thompson and D.E. Chimenti, pp.599-611, Plenum Press, New York, 1989.
• [2] C.-C. Tai and J.C. Moulder, “Bolt-hole corner crack inspection using the photoinductive imaging method,” J. Nondestructive Evaluation, vol.19, no.3, pp.81-93, 2000.
• [3] J.C. Moulder and N. Nakagawa, “Characterizing the performance of eddy current probes using photoinductive field-mapping,” Research in Nondestructive Evaluation, vol.4, no.4, pp.221-236, 1992.
• [4] N. Nakagawa and J.C. Moulder, “Eddy current probe calibration via the photoinductive effect,” NDT&E International, vol.28, no.4, pp.245-246, 1995.
• [5] M.S. Hughes, J.C. Moulder, M.W. Kubovich, and B.A. Auld, “Mapping eddy current probe fields using the photoinductive effect,” NDT&E International, vol.28, no.4, p.251, 1995.

タイトルに関連する用語 (8件)： 誘導 ,  技法 ,  渦 ,  電流プローブ ,  フィールド ,  マッピング ,  薄膜厚 ,  数値解析