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J-GLOBAL ID:201202202160210728   整理番号:12A1557383

Niナノ結晶被覆の製造に及ぼすシス-2-ブテン-1,4-ジオール添加剤とパルス電流印加の効果

Effects of cis-2-butene-1,4-diol additive and pulse current imposition on production of Ni nanocrystalline coatings
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巻: 90  号:ページ: 267-273  発行年: 2012年09月 
JST資料番号: E0279A  ISSN: 0020-2967  CODEN: TIMFA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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Niめっきはその優れた性質から様々な分野で利用されている。このNiめっき層の性質はめっき浴中の添加剤によって大きく変えることができることが知られている。また,電気めっきの際のパルス電流も同様にめっき層の性質に影響を与える。本研究においては,添加剤としてシス-2-ブテン-1,4-ジオール(BUD)を用い,直流およびパルス条件で電気めっきを実施し,得た皮膜の結晶構造解析,表面構造解析およびVickers硬度評価を実施した。これらの実験から,BUDとパルス電流の併用によりNiめっき層のナノ結晶化を促進できることを明らかにし,このナノ結晶化は硬度向上に寄与することも示した。
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分類 (2件):
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電気めっき  ,  機械的性質 
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