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J-GLOBAL ID：201202203113961177   整理番号：12A1439386

光学顕微鏡で得た再構築マスクイメージでのフォトレジスト中の3D空間イメージ構築

Building 3D Aerial Image in Photoresist with Reconstructed Mask Image Acquired with Optical Microscope

著者 (6件)： CHOU C. S. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinshu County, TWN) ,  TANG Y. P. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinshu County, TWN) ,  CHU F. S. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinshu County, TWN) ,  HUANG W. C. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinshu County, TWN) ,  LIU R. G. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinshu County, TWN) ,  GAU T. S. (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinshu County, TWN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8326  号： Pt.2  ページ： 83261L.1-83261L.7  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ウエハ上のマスクイメージ較正は微細パターンで重要である。その方法にSEMで輪郭を求め光学シミュレータでウエハイメージを得る方法と,空間イメージ測定システムでウエハ上のイメージをエミュレートする方法がある。いずれの方法も3D構造を考慮しなかったり,ウエハ上の膜の反射率や屈折率の影響で実態とは一致しない。提案する方法はウエハ上のイメージをより正確にエミュレートする。光学顕微鏡イメージングシステムでは平面波が照明のコヒーレント点光源による瞳面から抽出できる。特別なコヒーレント照明の平面波を解析すると波の部分コヒーレント成分は伝達関数で再構築され,それはレンズ収差,偏光,膜の反射と屈折などを含んでいる。この方法は,マスクトポロジ効果を考慮していない間接SEM測定の欠点を持たずに,ウエハ上にイメージマスクの近接光場を伝達する新しい方法である。

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  *フォトリソグラフィー ,  開口数 ,  リソグラフィー ,  計算機シミュレーション ,  フォトレジスト ,  空間 ,  画像 ,  光学顕微鏡 ,  平面波 ,  コヒーレント光 ,  伝達関数 ,  *フォトマスク ,  *画像再構成
準シソーラス用語： イメージ ,  イメージ再構築 ,  リソグラフィシミュレーション ,  高開口数 ,  三次元空間

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光学顕微鏡 ,  再構築 ,  マスク ,  イメージ ,  フォトレジスト ,  3D空間 ,  構築