文献

J-GLOBAL ID：201202203783207295   整理番号：12A1772780

原子層堆積材料のサイクルごとのin situ瞬間焼きなまし

In Situ Cycle-by-Cycle Flash Annealing of Atomic Layer Deposited Materials

著者 (7件)： LANGSTON Michael C. (Stanford Univ., California, USA) ,  DASGUPTA Neil P. (Stanford Univ., California, USA) ,  JUNG Hee Joon (Stanford Univ., California, USA) ,  LOGAR Manca (Stanford Univ., California, USA) ,  HUANG Yu (Stanford Univ., California, USA) ,  SINCLAIR Robert (Stanford Univ., California, USA) ,  PRINZ Fritz B. (Stanford Univ., California, USA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 116  号： 45  ページ： 24177-24183  発行年： 2012年11月15日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 閃光ランプを組み込んだ原子層堆積(ALD)装置を用いて,TiO₂およびPbS量子ドット薄膜を合成した。1回のALDサイクルに閃光ランプによる短時間の加熱プロセス(FLA)を導入することで,通常は無定形のTiO₂が生成するTDMAT/H₂Oから,結晶性のTiO₂を生成させるのに成功した。Pb(tmhd)₂/H₂SによるPbS量子ドットの合成では,FLAの条件(照射時間,照射回数,冷却時間)によって,量子ドットの粒径,形態および粒径分布を調節することができた。生成物は透過型電子顕微鏡でキャラクタライズした。ここで,TMDATはテトラキス(ジメチルアミド)チタン(IV)を,Htmhdは2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオンを表す。

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *RTA【熱処理】 ,  サイクル ,  閃光電球 ,  ナノ結晶 ,  硫化鉛 ,  量子ドット ,  粒度分布 ,  粒径 ,  形態 ,  非晶質 ,  薄膜 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *工程 ,  チタン錯体 ,  アミド錯体 ,  脂肪族ケトン ,  ジケトン
準シソーラス用語： *サイクル工程 ,  ナノ結晶酸化チタン ,  フラッシュランプアニール ,  *原子層堆積 ,  閃光ランプ

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

物質索引 (1件)： 2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオン

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子層堆積 ,  サイクル ,  瞬間 ,  焼きなまし