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J-GLOBAL ID：201202204129791251   整理番号：12A1523498

CuドープEr:SiO₂系におけるλ=1.54μmで増強されたフォトルミネセンス

Enhanced Photoluminescence at λ = 1.54 μm in the Cu-Doped Er:SiO₂ System

著者 (6件)： CATTARUZZA Elti (Universita Ca’ Foscari Venezia, Venezia-Mestre, ITA) ,  BATTAGLIN Giancarlo (Universita Ca’ Foscari Venezia, Venezia-Mestre, ITA) ,  VISENTIN Francesca (Universita Ca’ Foscari Venezia, Venezia-Mestre, ITA) ,  TRAVE Enrico (Universita Ca’ Foscari Venezia, Venezia-Mestre, ITA) ,  AQUILANTI Giuliana (Elettra-Sincrotrone Trieste S.C.p.A., Trieste, ITA) ,  MARIOTTO Gino (Universita di Verona, Verona, ITA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 116  号： 39  ページ： 21001-21011  発行年： 2012年10月04日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多源高周波マグネトロンスパッタリング沈着により3種のCuドープEr:SiO₂膜を合成し,1.54μmEr³⁺フォトルミネセンス(PL)発光について調べた。いくつかの同時ドープ試料は純Er:SiO₂よりも1.54μm発光強度が強く,特に低温(T<700°C)での後焼きなまし後に強くなった。また,熱処理温度および膜成長での種々の熱処理は銅凝集体形成に影響を及ぼした。CuドープEr:SiO₂での広帯域PL励起は,他の金属にドープされたEr:SiO₂と類似していた。

シソーラス用語： *エルビウム ,  *酸化ケイ素 ,  *光ルミネセンス ,  RFスパッタリング ,  マグネトロンスパッタリング ,  後熱処理 ,  焼なまし ,  *ドーピング ,  凝集体 ,  エネルギー移動 ,  *銅 ,  増感剤

分類 (2件)： 無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  第3族元素の錯体  (CE01060J)

タイトルに関連する用語 (6件)： Cu ,  ドープ ,  Er ,  SiO2 ,  増強 ,  フォトルミネセンス