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J-GLOBAL ID：201202204394759289   整理番号：12A0705649

極ウルトラバイオレットリソグラフィ・マスクのイメージ位置決め誤差の調査

INVESTIGATION OF IMAGE PLACEMENT ERRORS IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY MASKS

著者 (1件)： ZHENG Liang (Harbin Inst. Technol. Shenzhen Graduate School, Shenzhen, CHN)
資料名： IET Conference Publications  (IET Conference Publications)
巻： 576  ページ： 293-296  発行年： 2010年 
JST資料番号： B0665A  ISSN： 0537-9989  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極ウルトラバイオレットリソグラフィ・マスクの製造について検討した。マスク製造プロセス中に誘起されるイメージ配置エラーについて調べた。マスクの非均一性によるイメージ配置エラーは含まれていない。マスク基板としてはULE(超低膨張)ガラスを使用した。サイズは152.4×152.4×6.35mmである。リフレクタとしては厚さ280nmのMo/Si MLを使用した。吸収層としてはクロムを使用した。パターン領域の右上のコーナーで,最大のイメージ配置エラー10nmが生じることがわかった。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  精度 ,  型 ,  パターン形成 ,  生産工程 ,  ガラス
準シソーラス用語： マスクパターン ,  *位置決め精度 ,  製造プロセス ,  超低膨張ガラス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： イメージ ,  位置決め誤差 ,  調査