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J-GLOBAL ID：201202204523443293   整理番号：12A1215626

位相単独光渦作製のための加算的リソグラフィープロセスにおけるフォトレジスト粗さのキャラクタリゼーション

Photoresist roughness characterization in additive lithography processes for the fabrication of phase-only optical vortices

著者 (3件)： HOSSEINIMAKAREM Zahra (Univ. North Carolina at Charlotte, NC) ,  POUTOUS Menelaos K. (Univ. North Carolina at Charlotte, NC) ,  JOHNSON Eric G. (Clemson Univ., SC)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8249  ページ： 82491M.1-82491M.6  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面粗さを最小とした最適化プロセスによる加算的リソグラフィーを用いて,多段階位相を備えた光渦位相素子を作製した。所望の位相プロファイルにたいして適切なダイナミックレンジを得るために,厚いフォトレジストを用いた。ベーキングプロセスと現像液の表面活性剤の効果を検討した。レジストの表面粗さは,現像液の界面活性剤,温度およびベーキング時間の関数であることが見いだされた。

シソーラス用語： *渦 ,  *リソグラフィー ,  フォトレジスト ,  界面活性剤 ,  表面粗さ ,  最適化 ,  プロセス制御 ,  *位相板 ,  現像液 ,  加算 ,  熱処理 ,  温度 ,  時間
準シソーラス用語： *光渦 ,  露光後ベーキング

分類 (3件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  量子光学一般  (BD04010X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (9件)： 位相 ,  光渦 ,  作製 ,  加算 ,  リソグラフィー ,  プロセス ,  フォトレジスト ,  粗さ ,  キャラクタリゼーション