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J-GLOBAL ID：201202204762069883   整理番号：12A0546402

堆積中の基板バイアスにより制御された真空アーク堆積ナノ構造Mo-Nコーティングの構造相と応力状態

Structural-phase and stressed state of vacuum-arc-deposited nanostructural Mo-N coatings controlled by substrate bias during deposition

著者 (8件)： SOBOL’ O. V. (National Technical Univ. “Kharkiv Polytechnical Inst.,”, 61002, Kharkiv, UKR) ,  SOBOL’ O. V. (National Scientific Center, Kharkiv Inst. of Physics and Technol., 61108, Kharkiv, UKR) ,  ANDREEV A. A. (National Technical Univ. “Kharkiv Polytechnical Inst.,”, 61002, Kharkiv, UKR) ,  ANDREEV A. A. (National Scientific Center, Kharkiv Inst. of Physics and Technol., 61108, Kharkiv, UKR) ,  STOLBOVOI V. A. (National Technical Univ. “Kharkiv Polytechnical Inst.,”, 61002, Kharkiv, UKR) ,  STOLBOVOI V. A. (National Scientific Center, Kharkiv Inst. of Physics and Technol., 61108, Kharkiv, UKR) ,  FIL’CHIKOV V. E. (National Technical Univ. “Kharkiv Polytechnical Inst.,”, 61002, Kharkiv, UKR) ,  FIL’CHIKOV V. E. (National Scientific Center, Kharkiv Inst. of Physics and Technol., 61108, Kharkiv, UKR)
資料名： Technical Physics Letters  (Technical Physics Letters)
巻： 38  号： 2  ページ： 168-171  発行年： 2012年02月 
JST資料番号： H0665A  ISSN： 1063-7850  CODEN： TPLEED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 結晶構造 ,  *被覆 ,  バイアス ,  プラズマ溶射 ,  ナノ構造 ,  モリブデン化合物 ,  窒化物 ,  硬度
準シソーラス用語： プラズマスプレー法 ,  *基板バイアス ,  *窒化モリブデン ,  弾性歪 ,  応力状態

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 堆積 ,  基板バイアス ,  真空アーク ,  ナノ構造 ,  Mo ,  コーティング ,  応力状態