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J-GLOBAL ID:201202204899523913   整理番号:12A1549414

ゾル-ゲル誘導SiO2-GeO2系非晶質およびナノ複合材料の構造の研究

Structural investigation of sol-gel derived SiO2-GeO2 noncrystalline and nanocomposite materials
著者 (3件):
資料名:
巻: 63  号:ページ: 425-434  発行年: 2012年09月 
JST資料番号: W0812A  ISSN: 0928-0707  CODEN: JSGTEC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Si:Ge比が8:1から2:1の(1-x)SiO2xGeO2系(x=0.111;0.142;0.2;0.333)非晶質およびナノ複合材料を初めにゾル-ゲル法により得た後,熱分析,X線回折,核磁気共鳴,ラマン分光により特性化した。DTAおよびXRDの結果によれば,調製した試料の非晶質状態は最大1,000°Cまで安定で,1200°Cで僅か30分間熱処理後の試料はクリストバライトと石英ナノ結晶の発達に起因して一部が結晶質になった。試料の組成と熱履歴の関数としてケイ素の局所構造を特徴づけるため固体29SiMAS-NMRを採用した。NMRデータはすべての試料においてQ2,Q3とQ4単位の存在を示した。高度に相互接続したSiO4四面体の比率はゲルマニウム含有量とアニーリング温度の両方を増加させた。ラマン分光法の結果はケイ素とゲルマニウム-酸素単位に関連する構造変化だけでなく,それらの相互接続がSi:GE比と依存とアニーリング温度に依存すること示した。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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セラミック・陶磁器の製造 
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