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J-GLOBAL ID：201202205019253676   整理番号：12A1123924

超音波スプレイ熱分解によってグラファイト基板に成長させた転写可能なオプトエレクトロニクスデバイス用の高光学品質ZnO膜

High optical quality ZnO films grown on graphite substrate for transferable optoelectronics devices by ultrasonic spray pyrolysis

著者 (8件)： ZHANG Zhikun (School of Physics and Optoelectronic Technol., Dalian Univ. of Technol., Dalian 116024, CHN) ,  BIAN Jiming (School of Physics and Optoelectronic Technol., Dalian Univ. of Technol., Dalian 116024, CHN) ,  SUN Jingchang (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian 116029, CHN) ,  MA Xiaowen (School of Physics and Optoelectronic Technol., Dalian Univ. of Technol., Dalian 116024, CHN) ,  WANG Yuxin (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian 116029, CHN) ,  CHENG Chuanhui (School of Physics and Optoelectronic Technol., Dalian Univ. of Technol., Dalian 116024, CHN) ,  LUO Yingmin (School of Physics and Optoelectronic Technol., Dalian Univ. of Technol., Dalian 116024, CHN) ,  LIU Hongzhu (Dalian Zebon Fluorocarbon Paint Stock Co., Ltd, Dalian 116036, CHN)
資料名： Materials Research Bulletin  (Materials Research Bulletin)
巻： 47  号： 9  ページ： 2685-2688  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： B0954A  ISSN： 0025-5408  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超音波スプレイ熱分解法によってグラファイト基板上にZnO薄膜を析出させた。熱処理前のZnO膜の結晶構造,形態および光学特性に対する基板温度および膜厚の効果を系統的に検討した。結果により,六方晶ウルツ鉱型構造を有する高密度ZnO膜が基板上に一様に分布することを示した。最適化したパラメータ下で調製した試料についての室温光ルミネセンス(PL)スペクトルにおいて強い近バンド端紫外線(UV)発光ピークが観測されたが,通常観測される欠陥関連の深準位発光はほとんど検知されず,この簡単なプロセスによって最適条件下では高光学品質ZnO膜を実現することができることを示した。グラファイト基板は弱く結合した層状構造からなるので,グラファイト上の多結晶ZnO膜の成長の成功は,任意の剛直または可撓性の多種基板に容易に転写する顕著な機会を提供する。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： グラファイト ,  固体素子 ,  *酸化亜鉛 ,  *薄膜成長 ,  熱分解 ,  超音波照射 ,  ウルツ鉱型結晶 ,  光ルミネセンス
準シソーラス用語： オプトエレクトロニクスデバイス ,  スプレー熱分解 ,  ウルツ鉱型構造

分類 (2件)： 固-気界面一般  (CB12041H) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (8件)： 超音波 ,  スプレイ熱分解 ,  グラファイト ,  成長 ,  転写 ,  オプトエレクトロニクスデバイス ,  光学品質 ,  ZnO