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J-GLOBAL ID：201202205695426605   整理番号：12A0777766

酸化防止層としてのCu上の極薄ポリジメチルシロキサン被覆層の作製

Preparation of ultrathin polydimethylsiloxane-coating on Cu as oxidation-protection layer

著者 (10件)： KIM Yoon-hyun (R&D Center, ChangSung Co. Ltd., Incheon, KOR) ,  KIM Yoon-hyun (SKKU Advanced Inst. of Nano Technol. (SAINT), 440-746 Suwon, KOR) ,  JEONG Myung-geun (Dep. of Chemistry, Sungkyunkwan Univ., 440-746 Suwon, KOR) ,  SEO Hyun Ook (Dep. of Chemistry, Sungkyunkwan Univ., 440-746 Suwon, KOR) ,  PARK Seong-yong (R&D Center, ChangSung Co. Ltd., Incheon, KOR) ,  JEONG In-bum (R&D Center, ChangSung Co. Ltd., Incheon, KOR) ,  KIM Kwang-dae (Dep. of Chemistry, Sungkyunkwan Univ., 440-746 Suwon, KOR) ,  CHO Sung Min (Dep. of Chemical Engineering, Sungkyunkwan Univ., 440-746 Suwon, KOR) ,  LIM Dong Chan (Materials Processing Div., Korea Inst. of Materials Sci., Changwon 641-010, KOR) ,  KIM Young Dok (Dep. of Chemistry, Sungkyunkwan Univ., 440-746 Suwon, KOR)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 258  号： 19  ページ： 7562-7566  発行年： 2012年07月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 平均厚さ3~5nmの極めて薄いポリジメチルシロキサン(PDMS)-層を窒素雰囲気下の200°Cで熱蒸着法によりCu上に形成した。X線光電子分光法及びFT-IRを使用して,ジメチルシロキサン構造はPDMSの蒸発及びそのCu粒子上への堆積後も維持されていることを示した。Cu酸化の開始温度はPDMS層があるとき50°C以上高い方へシフトし,PDMSは各種応用で金属粒子の保護層として使用できることが分かった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリジメチルシロキサン ,  超薄膜 ,  被覆層 ,  *酸化防止 ,  *銅 ,  *真空蒸着 ,  X線光電子スペクトル ,  赤外吸収スペクトル ,  高分子薄膜 ,  耐食性 ,  *保護膜
準シソーラス用語： FTIRスペクトル

分類 (2件)： 防食  (WB03040M) ,  気相めっき  (WC08022K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸化防止 ,  Cu ,  極 ,  ポリジメチルシロキサン ,  被覆層 ,  作製