文献

J-GLOBAL ID：201202205764268618   整理番号：12A1211289

ナフタレンのOHラジカル開始反応による2-ホルミルシンナムアルデヒド形成: NO₂濃度の影響

2-Formylcinnamaldehyde Formation Yield from the OH Radical-Initiated Reaction of Naphthalene: Effect of NO₂ Concentration

著者 (3件)： NISHINO Noriko (Univ. California Riverside, California, USA) ,  AREY Janet (Univ. California Riverside, California, USA) ,  ATKINSON Roger (Univ. California Riverside, California, USA)
資料名： Environmental Science & Technology  (Environmental Science & Technology)
巻： 46  号： 15  ページ： 8198-8204  発行年： 2012年08月07日 
JST資料番号： B0839A  ISSN： 0013-936X  CODEN： ESTHA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大気中における最も豊富な多環式芳香族炭化水素であるナフタレンはOHラジカルと付加反応してOH-ナフタレンアダクトを形成する。これらOH-ナフタレン付加物はO₂およびNO₂と,大気中において60 ppbvのNO₂混合比で重要な2つの反応をする。2-ホルミルシンナムアルデヒドはナフタレンのOHラジカル開始反応の主な生成物で,OH-ナフタレンアダクトとNO₂との反応で56%の収率であった。大気中における3水準の平均NO₂濃度におけるナフタレンのOHラジカル開始反応による2-ホルミルシンナムアルデヒド生成収率を測定した。2-ホルミルシンナムアルデヒド形成収率はNO₂濃度低減により低下して,OH-ナフタレンアダクト+O₂反応による収率14%がOH-ナフタレンアダクト+NO₂反応による収率56%に基づいて得られた。ナフタレン+OH反応によるグリオキサールおよびフタルジアルデヒドの以前の測定と単環芳香族炭化水素のOHラジカル開始反応の文献データに基づくと,OH-ナフタレンアダクトのO₂との反応がOH-単環アダクト+O₂反応と著しく異なるようであった。

シソーラス用語： 大気汚染物質 ,  *芳香族縮合炭化水素 ,  *ヒドロキシルラジカル ,  付加反応 ,  *二酸化窒素 ,  ラジカル反応 ,  収率 ,  濃度依存性 ,  酸素 ,  *反応機構 ,  光化学反応 ,  反応生成物 ,  ポリアセン
準シソーラス用語： 化学収率

分類 (3件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  ナフタレン  (CF06020D) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (2件)： 2-ホルミルシンナムアルデヒド ,  ナフタレン

タイトルに関連する用語 (4件)： ナフタレン ,  OHラジカル ,  2-ホルミルシンナムアルデヒド ,  NO2