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J-GLOBAL ID：201202205878670793   整理番号：12A0651926

面内,あるいは垂直磁気異方性があるナノワイヤにおける磁壁運動への切欠き形状の効果

Effects of notch shape on the magnetic domain wall motion in nanowires with in-plane or perpendicular magnetic anisotropy

著者 (5件)： NOH Su Jung (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR) ,  MIYAMOTO Yasuyoshi (Sci. and Technol. Res. Laboratories, Japan Broadcasting Corp., Tokyo 157-8510, JPN) ,  OKUDA Mitsunobu (Sci. and Technol. Res. Laboratories, Japan Broadcasting Corp., Tokyo 157-8510, JPN) ,  HAYASHI Naoto (Sci. and Technol. Res. Laboratories, Japan Broadcasting Corp., Tokyo 157-8510, JPN) ,  KEUN KIM Young (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 111  号： 7  ページ： 07D123-07D123-3  発行年： 2012年04月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノワイヤの磁壁(DW)はスピントロニクス素子への応用が可能なため盛んに研究されている。磁気データを正確に記憶するため,DWのピン止めとデピンニングを制御することが重要となる。ここでは,面内磁気異方性(IMA),あるいは面に垂直な磁気異方性(PMA)を持つ切欠きがある,あるいはないナノワイヤにおけるDW運動の挙動のマイクロマグネティックモデリングの結果を報告する。IMAがあるナノワイヤでは,切欠きがないナノワイヤのDWエネルギーは垂直切欠きがあるナノワイヤに比べて低い。切欠きがないナノワイヤで初期のDWデピンニング運動を観察した。IMAがある場合とは異なり,PMAがあるナノワイヤのDWエネルギーは垂直切欠きがあるナノワイヤのものよりも低い。切欠きがないナノワイヤの方が容易なDWデピンニングが観測された。IMAの場合とは異なり,PMAがあるナノワイヤのDWエネルギーは垂直切欠きがある方が低い。このように,電流密度が同じとき,PMAがあるナノワイヤにおいて,切欠きがない場合に比べて垂直切欠きを通してDWが高速に容易に動かせる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 垂直磁気異方性 ,  磁気異方性 ,  *ナノワイヤ ,  *磁壁 ,  運動 ,  スピントロニクス ,  切欠き ,  計算機シミュレーション ,  コバルト ,  パラジウム ,  モデリング
準シソーラス用語： マイクロマグネティックモデリング ,  *磁壁ピン止め ,  磁壁運動 ,  面内磁気異方性

分類 (1件)： 磁区・磁化過程一般  (BM06111M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 垂直磁気異方性 ,  ナノワイヤ ,  磁壁運動 ,  切欠き