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J-GLOBAL ID：201202206086992897   整理番号：12A1046597

無電解Ni-B皮膜の特性に及ぼす通常と活性スクリーンのプラズマ窒化の影響

Effects of conventional and active screen plasma nitriding on properties of electroless Ni-B coating

著者 (2件)： AHMADKHANIHA D. (Amirkabir Univ. Technol., Tehran, IRN) ,  MAHBOUBI F. (Amirkabir Univ. Technol., Tehran, IRN)
資料名： Materials Science and Technology  (Materials Science and Technology)
巻： 28  号： 6  ページ： 680-684  発行年： 2012年06月 
JST資料番号： C0304C  ISSN： 0267-0836  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ni-Bの無電解めっき皮膜のプラズマ窒化についてはまだない。組織と表面性質に関して通常プラズマ窒化と活性スクリーンプラズマ窒化に対するこの皮膜の応答を評価した。Ni-B無電解めっき皮膜はすでに長年使われてきたが広範囲の用途で摩耗を減らすために使われた皮膜の最近の進歩を示した。AISI]4140基板にアルカリ溶液で無電解めっきした。調製しためっき皮膜を同じ条件下で通常プラズマ窒化と性スクリーンプラズマ窒化した。皮膜の微細構造,形態,微小硬さ,耐摩耗性を評価した。後処理するとめっきした状態での非晶質から結晶化した。それにより微小硬さと耐摩耗性が向上した。プラズマ窒化は従来の熱処理より微小硬さと耐摩耗性を高めた。これはプラズマ窒化中のイオン原子のスパッタリングのためであった。活性スクリーンプラズマ窒化は通常プラズマ窒化よりも表面粗さと耐摩耗性を改善した。

シソーラス用語： *無電解めっき ,  めっき皮膜 ,  合金めっき ,  ニッケル合金 ,  ホウ素含有合金 ,  *イオン窒化 ,  中炭素合金鋼 ,  低合金鋼 ,  基板 ,  耐摩耗性 ,  表面粗さ ,  押込硬さ ,  非晶質 ,  微小硬さ ,  スクリーン
準シソーラス用語： AISI4140

分類 (2件)： 表面硬化熱処理  (WC03030E) ,  無電解めっき  (WC08024S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電解 ,  Ni ,  皮膜 ,  活性 ,  スクリーン ,  プラズマ窒化