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J-GLOBAL ID：201202206241512295   整理番号：12A1114158

エレクトロクロミック応用のための酸化タンタル電解質薄膜のマグネトロンスパッタリング

Magnetron Sputtering of Tantalum Oxide Thin Electrolyie Film for Electrochromic Applications

著者 (4件)： LIU Chien-Cheng (Kun Shan Univ., Tainan, TWN) ,  LIU Kuang-I (National Tsing Hua Univ., TWN) ,  LIN Hao-Tung (Kun Shan Univ., Tainan, TWN) ,  HUANG Jow-Lay (National Cheng Kung Univ., TWN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 512/515 Pt.2  ページ： 1604-1608  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エレクトロクロミック応用のため厚さ150~400nmのTa₂O₅薄膜をDCマグネトロンスパッタリングでWO₃/ITO基板に作製し,薄膜の光透過特性と微構造との関係を調べた。X線回折から薄膜は非晶質であった。光透過率は約80%であった。屈折率は膜厚で変化するが1.84~1.92と小さく,低い熱処理温度と多孔質な微構造が影響した。SEM観察から膜は平滑でち密な表面を示した。SEMによる断面観察から膜厚が増加すると気孔率が増加して柱状構造を示した。サイクリックボルタンメトリ曲線から膜厚の増加で電流密度は増加した。厚さ300nmで550nmでの着色状態と脱色状態間の透過率変化は厚さ150nmに比べて56.7%増加した。

シソーラス用語： *エレクトロクロミズム ,  *酸化タンタル ,  電解質 ,  マグネトロンスパッタリング ,  光透過 ,  微細構造 ,  透過率 ,  非晶質 ,  電流密度 ,  膜厚 ,  温度 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  薄膜成長 ,  イオン伝導 ,  蒸着膜 ,  表面粗さ ,  多孔質体
準シソーラス用語： 光透過率 ,  電解質薄膜 ,  熱処理温度

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電気光学効果,磁気光学効果  (BM08020L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 応用 ,  酸化タンタル ,  電解質 ,  薄膜 ,  マグネトロンスパッタリング