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J-GLOBAL ID：201202206521144690   整理番号：12A1243915

Niナノ/ミクロロッドアレイのテンプレートを用いない電気化学的析出及びキャラクタリゼーション

Template-Free Electrochemical Deposition and Characterization of Ni Nano/Microrod Arrays

著者 (6件)： YAO Chen-Zhong (Yuncheng Univ., Yuncheng, CHN) ,  WEI Bo-Hui (Yuncheng Univ., Yuncheng, CHN) ,  MENG Li-Xin (Yuncheng Univ., Yuncheng, CHN) ,  HU Xiao-Hua (Yuncheng Univ., Yuncheng, CHN) ,  YAO Ji-Huan (Yuncheng Univ., Yuncheng, CHN) ,  CUI Ke-Yong (Yuncheng Univ., Yuncheng, CHN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 159  号： 7  ページ： D425-D430  発行年： 2012年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テンプレートも界面活性剤も用いずに,チタン基板上に定電流電解で垂直に配列したニッケルナノ/ミクロロッドアレイを作製した。ミクロロッドは,Ni(SO₄)₂+CH₃COONH₄+KNaC₄H₄O₆(濃度は,いずれも0.01M)の溶液を,ナノロッドは,Ni(SO₄)₂+CH₄N₂S+KCl(濃度は,いずれも0.01M)の溶液を用いてサイクリックボルタンメトリーで電着した。反応時間及び温度は,前者で30分,90°C,後者で60分,50°Cである。走査電子顕微鏡で観察したアスペクト比はナノ,ミクロロッドでそれぞれ11,3である。析出ニッケルは,すべて立方相で,ミクロロッドは単結晶,ナノロッドは多結晶であることが,それぞれX線回折,透過型電子顕微鏡観察でわかった。3wt% NaCl中での腐食試験で,多結晶構造のNi膜の耐食性は,表面欠陥の多さで低かった。Niナノ/ミクロロッドの両アレイとも室温で軟磁性,5Kで強磁性を示した。磁性材料としての用途が期待される。

シソーラス用語： *ニッケル ,  *ナノロッド ,  *微細構造 ,  アレイ ,  *電着 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  アスペクト比 ,  立方晶系 ,  単結晶 ,  多結晶 ,  軟磁性材料 ,  強磁性 ,  耐食性 ,  電子顕微鏡観察 ,  X線回折 ,  塩化ナトリウム ,  輸送係数 ,  拡散係数 ,  表面欠陥 ,  曲線
準シソーラス用語： ヒステリシスループ ,  *マイクロロッド ,  走査電子顕微鏡観察 ,  透過型電子顕微鏡観察

分類 (4件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電気化学反応  (CB07050F) ,  金属の結晶構造  (BK06000V) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ni ,  テンプレート ,  電気化学的析出 ,  キャラクタリゼーション